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化工原料用纳米二氧化锡
UG-S20;UG-S50纯 度：光谱法分析测试杂质含量。晶粒度：X衍射（XRD）线宽化法平均晶粒的测定。颗粒度：GB/T13221纳米粉末粒度分
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2025-02-10 |
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陶瓷用纳米氧化铜液体
型号：UG-CU40技术指标1、颜色：黑色2、平均粒径：40纳米3、纯度 99.5%4、比表面积：18.34 m2/g5、分散性：纳米氧化铜粉体为软团
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2025-02-08 |
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有机合成的催化剂用纳米氧化铜
型号：UG-CU40技术指标1、颜色：黑色2、平均粒径：40纳米3、纯度 99.5%4、比表面积：18.34 m2/g5、分散性：纳米氧化铜粉体为软团
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2025-02-08 |
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光学玻璃磨光剂用纳米氧化铜
型号：UG-CU40技术指标1、颜色：黑色2、平均粒径：40纳米3、纯度 99.5%4、比表面积：18.34 m2/g5、分散性：纳米氧化铜粉体为软团
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2025-02-08 |
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测定有机化合物用纳米氧化铜
型号：UG-CU40技术指标1、颜色：黑色2、平均粒径：40纳米3、纯度 99.5%4、比表面积：18.34 m2/g5、分散性：纳米氧化铜粉体为软团
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2025-02-08 |
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40纳米氧化铜粉体
型号：UG-CU40技术指标1、颜色：黑色2、平均粒径：40纳米3、纯度 99.5%4、比表面积：18.34 m2/g5、分散性：纳米氧化铜粉体为软团
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2025-02-08 |
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电子元器件用气相二氧化硅
疏水型超细二氧化硅粉是根据不同基质材料的特性，采用特殊进口助剂和工艺对粉体进行表面原位改性处理而成。疏水型超细二氧化硅粉
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2025-02-07 |
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超硬耐磨涂料用气相二氧化硅
疏水型超细二氧化硅粉是根据不同基质材料的特性，采用特殊进口助剂和工艺对粉体进行表面原位改性处理而成。疏水型超细二氧化硅粉
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2025-02-07 |
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